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為啥說CRF等離子清洗設備濺射工件表面不會影響其性能

  • 分類:技術支持
  • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
  • 來源:低溫等離子設備生產廠家
  • 發布時間:2022-11-21
  • 訪問量:

【概要描述】為啥說CRF等離子清洗設備濺射工件表面不會影響其性能: ? ? ? ? ?CRF等離子清洗設備選用高頻電源能夠提高工件表面的粘合力,親水性,通過去除有機污染物,在表面介入極性有機官能團,提高表面親水性及表面潤濕性能,是徹底地剝離式干式清洗,真空等離子表面處理設備處理后不會在工件表面產生損傷層,材料表面質量得到保證。 ? ? ? ? CRF等離子清洗設備清洗采用O2和AR,產生能量,當有足夠的能量就可以打開PTFE的碳氟鍵,同時又有活性基團替代掉氟原子時,PTFE聚四氟乙烯也就變成了極性高聚物,表面能得到提升,親水性得以改善。 根據所處理的PTFE產品不同的形狀、處理目的和要求會有所區別。例如薄膜類材料適用采用卷對卷的等離子設備;板材類材料適用采用水平或者是垂直的電極結構的等離子清洗機。對CRF真空等離子清洗設備控制參數的把控,對處理PTFE聚四氟乙烯材料有重要影響。 ? ? ? ? CRF等離子清洗設備包括低壓真空設備和常壓設備,前者可以通入不同的工藝氣體,調配多項控制參數,相對適用處理PTFE聚四氧乙烯。 ? ? ? ? ?CRF等離子清洗設備也叫清潔機,或者是plasma,是種嶄新的先進科技,使用等離子體來達到普通清洗方法不能達到的實際效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。如果在真空等離子表面處理設備放電氣體中引入反應性氣體,那么在活化的工件表面會發生復雜的化學反應,引入新的官能團,如烴基、氨基、羧基等,這些官能團都是活性基團,能明顯提高材料表面活性。一般材料經NH3.O2.CO.Ar.N2.H處理后接觸空氣的2等氣體等離子體將在表面引入—COOH等基團,增加其親水性。 ?

為啥說CRF等離子清洗設備濺射工件表面不會影響其性能

【概要描述】為啥說CRF等離子清洗設備濺射工件表面不會影響其性能:
? ? ? ? ?CRF等離子清洗設備選用高頻電源能夠提高工件表面的粘合力,親水性,通過去除有機污染物,在表面介入極性有機官能團,提高表面親水性及表面潤濕性能,是徹底地剝離式干式清洗,真空等離子表面處理設備處理后不會在工件表面產生損傷層,材料表面質量得到保證。
? ? ? ? CRF等離子清洗設備清洗采用O2和AR,產生能量,當有足夠的能量就可以打開PTFE的碳氟鍵,同時又有活性基團替代掉氟原子時,PTFE聚四氟乙烯也就變成了極性高聚物,表面能得到提升,親水性得以改善。
根據所處理的PTFE產品不同的形狀、處理目的和要求會有所區別。例如薄膜類材料適用采用卷對卷的等離子設備;板材類材料適用采用水平或者是垂直的電極結構的等離子清洗機。對CRF真空等離子清洗設備控制參數的把控,對處理PTFE聚四氟乙烯材料有重要影響。
? ? ? ? CRF等離子清洗設備包括低壓真空設備和常壓設備,前者可以通入不同的工藝氣體,調配多項控制參數,相對適用處理PTFE聚四氧乙烯。
? ? ? ? ?CRF等離子清洗設備也叫清潔機,或者是plasma,是種嶄新的先進科技,使用等離子體來達到普通清洗方法不能達到的實際效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。如果在真空等離子表面處理設備放電氣體中引入反應性氣體,那么在活化的工件表面會發生復雜的化學反應,引入新的官能團,如烴基、氨基、羧基等,這些官能團都是活性基團,能明顯提高材料表面活性。一般材料經NH3.O2.CO.Ar.N2.H處理后接觸空氣的2等氣體等離子體將在表面引入—COOH等基團,增加其親水性。
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  • 分類:技術支持
  • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
  • 來源:低溫等離子設備生產廠家
  • 發布時間:2022-11-21 10:29
  • 訪問量:
詳情

為啥說CRF等離子清洗設備濺射工件表面不會影響其性能:
         CRF
等離子清洗設備濺選用高頻電源能夠提高工件表面的粘合力,親水性,通過去除有機污染物,在表面介入極性有機官能團,提高表面親水性及表面潤濕性能,是徹底地剝離式干式清洗,真空等離子表面處理設備處理后不會在工件表面產生損傷層,材料表面質量得到保證。
等離子清洗設備        CRF等離子清洗設備清洗采用O2和AR,產生能量,當有足夠的能量就可以打開PTFE的碳氟鍵,同時又有活性基團替代掉氟原子時,PTFE聚四氟乙烯也就變成了極性高聚物,表面能得到提升,親水性得以改善。
根據所處理的PTFE產品不同的形狀、處理目的和要求會有所區別。例如薄膜類材料適用采用卷對卷的等離子設備;板材類材料適用采用水平或者是垂直的電極結構的等離子清洗機。對CRF真空等離子清洗設備控制參數的把控,對處理PTFE聚四氟乙烯材料有重要影響。
        CRF
等離子清洗設備濺包括低壓真空設備和常壓設備,前者可以通入不同的工藝氣體,調配多項控制參數,相對適用處理PTFE聚四氧乙烯。
         CRF
等離子清洗設備濺也叫清潔機,或者是plasma,是種嶄新的先進科技,使用等離子體來達到普通清洗方法不能達到的實際效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。如果在真空等離子表面處理設備放電氣體中引入反應性氣體,那么在活化的工件表面會發生復雜的化學反應,引入新的官能團,如烴基、氨基、羧基等,這些官能團都是活性基團,能明顯提高材料表面活性。一般材料經NH3.O2.CO.Ar.N2.H處理后接觸空氣的2等氣體等離子體將在表面引入—COOH等基團,增加其親水性。

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