等離子機清洗設備對OLED屏濺射后的表面影響機理

• 分類：公司動態
• 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
• 來源：微波等離子清洗設備生產廠家
• 發布時間：2023-02-09
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【概要描述】等離子機清洗設備對OLED屏濺射后的表面影響機理： ? ? ? ?氧化銦錫(ITO)具有高透光率、導電性能好等特點，作為陽極材料廣泛應用于有機電致發光器件(OLED)，但ITO的表面功函數與器件內的空穴傳輸層NPB的最高電子具有軌道(HOMO)之間產生較高的勢壘，導致器件的驅動出現電壓高、工作效率低、壽命短等問題。 ? ? ? ? 經調查后發現ITO經氧plasma的處理可之后發現空穴的注人和器件的穩定性。使用有所不同功率的等離子體對ITO進行處理，促使ITO功函數大幅度提高，改善了器件的性能。 ? ? ? ? 有機電致發光器件(OLED)，由于自發光，亮度高，可視角度大等諸多優勢，在顯示和照明領域備受青睞，具有極大的應用前景。 因為它是氧化的(ITO)導電膜具有良好的導電性能，在可見光范圍內具有較高的透光率，因此在光電領域得到了廣泛的應用，在有機電致發光領域也經常被用作OLED陽極材料。 ? ? ? ? 在有機發光二極管中，由于ITO可以直接接觸有機薄膜，表面有機污染物含量、表面電阻、表面粗糙度和功能函數等表面特性對整個設備的性能起著重要作用。改變ITO的表面特性可以影響有機發光二極管的性能?，F階段處理ITO的方法主要分為物理方法和化學方法2種?；瘜W方法主要包括酸堿處理、氧化劑處理以及在ITO表面添加有機和無機化合物。 ? ? ? ?等離子機清洗設備工藝被認為是最有效的處理方式。ITO的表面功能函數和設備中空穴傳輸層NPB的最高電子有軌道(HOMO)兩者之間的勢壘較高，導致設備性能低下。TTO表面的氧含量會直接影響ITO的功能函數，氧含量的增加會導致ITO費米能級的降低和功能函數的增加?；旌系入x子體處理后，ITO的表面形狀會發生顯著變化。 ? ? ? ? 沒有進行處理的ITO表面形貌與等離子體處理后的ITO表面形貌分析發現，ITO表面的平均粗糙度和峰谷距離均有明顯降低，其表面顆粒半徑也降低不少。平均粗糙度和表面顆粒半徑的減小促使ITO與有機層的接觸面增大，有利于氧原子附著。 等離子機清洗設備處理能更好地改善ITO表面形貌，同時可以看到ITO表面氧空洞明顯增多，表面富集了一層帶負電的氧，形成界面偶極層，增加了ITO表面功函數，促使ITO的空穴注人能力大大增強。 ? ? ? ? 此外，等離子機清洗設備處理以后ITO表面粗糙度減少，ITO膜與NPB之間的界面能減少，空穴注人變得容易，與由陰極注人的電子更好的復合產生激子，plasma處理后的陽極制備的器件亮度高，質量好。