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CRF等離子火焰處理機涂覆針對不同的材料有何區別
- 分類:業界動態
- 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源:等離子體火焰處理機生產廠家
- 發布時間:2023-02-24
- 訪問量:
【概要描述】CRF等離子火焰處理機涂覆針對不同的材料有何區別: ? ? ? ?CRF等離子火焰處理機涂覆,其工藝要求高,比前面3種工藝技術都需要更加復雜,等離子體涂覆分成低壓和常壓。 低壓等離子體涂覆:要在真空環境密閉式腔室里邊導入單體(其實就是涂層,不論是氣態或液態都能夠),隨后單體會在等離子體的影響下發生聚合反應。根據等離子體聚合所獲得層厚度在這個微米區域之內。 ? ? ? ?現階段絕大多數材料都可以使用等離子體去進行涂覆,在涂覆的情況下,不一樣原材料的涂覆工藝業稍有區別:對金屬進行涂覆的情況下,先向金屬表面進行活化處理,隨后根據需要的表面功能進行涂覆,需要持久性親水涂層,我們可以把HMDSO與O2按照1:4的比例去混合,隨后涂覆到金屬表面,就可以獲得親水的性能,相反我們可以把HMDSO與O2按照4:1的比例去混合,一樣涂覆到金屬的表面,就可以獲得疏水的性能。 ? ? ? ?雖然給塑料制品進行表面涂覆的情況下并不復雜,但是為了得到較好的表面涂層,通常在涂覆的情況下,我們會交叉使用活化、刻蝕工藝,通常做法: (1)5分鐘O2活化; (2)5分鐘HMDSO涂覆、 (3)12秒鐘O2刻蝕; (4)5分鐘HMDSO涂覆; (5)12秒鐘O2刻蝕; (6)5分鐘HMDSO涂覆。 ? ? ? ?接著再通入幾秒鐘的O2等離子體,涂層會出現固化,與此同時涂層在此步驟會變為親水性。在前面工藝中,我們已經講到玻璃和陶瓷類材料都比較難處理,如果要對玻璃和陶瓷類材料進行,需要進行預處理其實就是活化和刻蝕,然后按照既定要求進行涂覆即可。 ? ? ? ? CRF等離子火焰處理機涂覆分成低壓等離子體涂覆和常壓等離子體涂覆,在常壓等離子體涂覆中,需要注意的是有一些單體是不允許被使用的;主要是因為由于毒性作用較強,故此不得將任何含鹵素的氣體和單體與常壓等離子體一同使用(F2,CL2,Br2,I)。同時在常壓等離子體涂覆中,我們會選用He、Ar、N2來作為載氣使用。 ?
CRF等離子火焰處理機涂覆針對不同的材料有何區別
【概要描述】CRF等離子火焰處理機涂覆針對不同的材料有何區別:
? ? ? ?CRF等離子火焰處理機涂覆,其工藝要求高,比前面3種工藝技術都需要更加復雜,等離子體涂覆分成低壓和常壓。
低壓等離子體涂覆:要在真空環境密閉式腔室里邊導入單體(其實就是涂層,不論是氣態或液態都能夠),隨后單體會在等離子體的影響下發生聚合反應。根據等離子體聚合所獲得層厚度在這個微米區域之內。
? ? ? ?現階段絕大多數材料都可以使用等離子體去進行涂覆,在涂覆的情況下,不一樣原材料的涂覆工藝業稍有區別:對金屬進行涂覆的情況下,先向金屬表面進行活化處理,隨后根據需要的表面功能進行涂覆,需要持久性親水涂層,我們可以把HMDSO與O2按照1:4的比例去混合,隨后涂覆到金屬表面,就可以獲得親水的性能,相反我們可以把HMDSO與O2按照4:1的比例去混合,一樣涂覆到金屬的表面,就可以獲得疏水的性能。
? ? ? ?雖然給塑料制品進行表面涂覆的情況下并不復雜,但是為了得到較好的表面涂層,通常在涂覆的情況下,我們會交叉使用活化、刻蝕工藝,通常做法:
(1)5分鐘O2活化;
(2)5分鐘HMDSO涂覆、
(3)12秒鐘O2刻蝕;
(4)5分鐘HMDSO涂覆;
(5)12秒鐘O2刻蝕;
(6)5分鐘HMDSO涂覆。
? ? ? ?接著再通入幾秒鐘的O2等離子體,涂層會出現固化,與此同時涂層在此步驟會變為親水性。在前面工藝中,我們已經講到玻璃和陶瓷類材料都比較難處理,如果要對玻璃和陶瓷類材料進行,需要進行預處理其實就是活化和刻蝕,然后按照既定要求進行涂覆即可。
? ? ? ? CRF等離子火焰處理機涂覆分成低壓等離子體涂覆和常壓等離子體涂覆,在常壓等離子體涂覆中,需要注意的是有一些單體是不允許被使用的;主要是因為由于毒性作用較強,故此不得將任何含鹵素的氣體和單體與常壓等離子體一同使用(F2,CL2,Br2,I)。同時在常壓等離子體涂覆中,我們會選用He、Ar、N2來作為載氣使用。
?
- 分類:業界動態
- 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源:等離子體火焰處理機生產廠家
- 發布時間:2023-02-24 19:13
- 訪問量:
CRF等離子火焰處理機涂覆針對不同的材料有何區別:
CRF等離子火焰處理機涂覆,其工藝要求高,比前面3種工藝技術都需要更加復雜,等離子體涂覆分成低壓和常壓。
低壓等離子體涂覆:要在真空環境密閉式腔室里邊導入單體(其實就是涂層,不論是氣態或液態都能夠),隨后單體會在等離子體的影響下發生聚合反應。根據等離子體聚合所獲得層厚度在這個微米區域之內。
現階段絕大多數材料都可以使用等離子體去進行涂覆,在涂覆的情況下,不一樣原材料的涂覆工藝業稍有區別:對金屬進行涂覆的情況下,先向金屬表面進行活化處理,隨后根據需要的表面功能進行涂覆,需要持久性親水涂層,我們可以把HMDSO與O2按照1:4的比例去混合,隨后涂覆到金屬表面,就可以獲得親水的性能,相反我們可以把HMDSO與O2按照4:1的比例去混合,一樣涂覆到金屬的表面,就可以獲得疏水的性能。
雖然給塑料制品進行表面涂覆的情況下并不復雜,但是為了得到較好的表面涂層,通常在涂覆的情況下,我們會交叉使用活化、刻蝕工藝,通常做法:
(1)5分鐘O2活化;
(2)5分鐘HMDSO涂覆、
(3)12秒鐘O2刻蝕;
(4)5分鐘HMDSO涂覆;
(5)12秒鐘O2刻蝕;
(6)5分鐘HMDSO涂覆。
接著再通入幾秒鐘的O2等離子體,涂層會出現固化,與此同時涂層在此步驟會變為親水性。在前面工藝中,我們已經講到玻璃和陶瓷類材料都比較難處理,如果要對玻璃和陶瓷類材料進行,需要進行預處理其實就是活化和刻蝕,然后按照既定要求進行涂覆即可。
CRF等離子火焰處理機涂覆分成低壓等離子體涂覆和常壓等離子體涂覆,在常壓等離子體涂覆中,需要注意的是有一些單體是不允許被使用的;主要是因為由于毒性作用較強,故此不得將任何含鹵素的氣體和單體與常壓等離子體一同使用(F2,CL2,Br2,I)。同時在常壓等離子體涂覆中,我們會選用He、Ar、N2來作為載氣使用。
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